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?n溝道m(xù)os管原理,nmos工作條件詳解-KIA MOS管

信息來源:本站 日期:2025-02-12 

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n溝道m(xù)os管原理,nmos工作條件詳解-KIA MOS管


n溝道m(xù)os管

n溝道m(xù)os管稱為nmos,用以下符號(hào)表示。

nmos,原理,工作條件

nmos管常用于大功率設(shè)備,如電機(jī)驅(qū)動(dòng)、開關(guān)電源和逆變器等。其工作原理是基于電壓型驅(qū)動(dòng)方式,小電壓控制大電壓,使用起來比較方便。


mos管的工作原理

mos管的工作取決于mos電容,它是源極和漏極之間的氧化層下方的半導(dǎo)體表面。只需分別施加正柵極電壓或負(fù)柵極電壓,即可將其從p型反轉(zhuǎn)為n型。


mos管的主要原理是能夠控制源極和漏極之間的電壓和電流。它的工作原理幾乎就像一個(gè)開關(guān),設(shè)備的功能基于mos電容。mos電容是mos管的的主要部分。

nmos,原理,工作條件

當(dāng)漏源電壓(VDS)連接在漏極和源極之間時(shí),正電壓施加到漏極,負(fù)電壓施加到源極。在這里,漏極的Pn結(jié)是反向偏置的,而源極的Pn結(jié)是正向偏置的。在這個(gè)階段,漏極和源極之間不會(huì)有任何電流流動(dòng)。


如果我們將正電壓(VGG)施加到柵極端子,由于靜電引力,P襯底中的少數(shù)電荷載流子(電子)將開始積聚在柵極觸點(diǎn)上,從而在兩個(gè)n+區(qū)域之間形成導(dǎo)電橋。


在柵極接觸處積累的自由電子的數(shù)量取決于施加的正電壓的強(qiáng)度。施加的電壓越高,由于電子積累而形成的n溝道寬度越大,這最終會(huì)增加電導(dǎo)率,并且漏極電流(ID)將開始在源極和漏極之間流動(dòng)。


當(dāng)沒有電壓施加到柵極端子時(shí),除了由于少數(shù)電荷載流子而產(chǎn)生的少量電流外,不會(huì)有任何電流流動(dòng)。mos管開始導(dǎo)通的最小電壓稱為閾值電壓。


n溝道m(xù)os管為例子來了解mos管工作原理。取一個(gè)輕摻雜的P型襯底,其中擴(kuò)散了兩個(gè)重?fù)诫s的n型區(qū)域,作為源極和漏極。在這兩個(gè)n+區(qū)域之間,發(fā)生擴(kuò)散以形成n溝道,連接漏極和源極。

nmos,原理,工作條件

在整個(gè)表面上生長一層薄薄的二氧化硅(SiO2),并制作孔以繪制用于漏極和源極端子的歐姆接觸。鋁的導(dǎo)電層覆蓋在整個(gè)通道上,在這個(gè)SiO2層上,從源極到漏極,構(gòu)成柵極。SiO2襯底連接到公共或接地端子。


由于其結(jié)構(gòu),mos管的芯片面積比BJT小得多,與雙極結(jié)型晶體管相比,其占用率僅為5%。


n溝道m(xù)os管(耗盡型)的工作原理

首先,我們認(rèn)為在柵極和溝道之間不存在Pn結(jié)。我們可以觀察到,擴(kuò)散溝道n(兩個(gè)n+區(qū)域之間)、絕緣介質(zhì)SiO2和柵極的鋁金屬層共同形成了一個(gè)平行板電容器。


如果nmos管必須工作在耗盡模式,則柵極端應(yīng)為負(fù)電位,漏極為正電位,如下圖所示。

nmos,原理,工作條件

當(dāng)柵極和源極之間沒有施加電壓時(shí),由于漏極和源極之間的電壓,一些電流會(huì)流動(dòng)。讓一些負(fù)電壓施加在VGG上。然后少數(shù)載流子即空穴被吸引并在SiO2層附近沉降。但是多數(shù)載流子,即電子被排斥。


在VGG處具有一定量的負(fù)電位時(shí),一定量的漏極電流ID流過源極到漏極。當(dāng)這個(gè)負(fù)電位進(jìn)一步增加時(shí),電子被耗盡,電流ID減小。因此,施加的VGG越負(fù),漏極電流ID的值就越小。


靠近漏極的通道比源極(如FET)消耗得更多,并且由于這種效應(yīng),電流會(huì)減少。


n溝道m(xù)os管的工作原理(增強(qiáng)型)

如果我們可以改變電壓VGG的極性,相同的mos管可以在增強(qiáng)模式下工作。因此,我們考慮柵極源極電壓VGG為正的mos管,如下圖所示。

nmos,原理,工作條件

當(dāng)柵極和源極之間沒有施加電壓時(shí),由于漏極和源極之間的電壓,一些電流會(huì)流動(dòng)。讓一些正電壓施加在VGG上。然后少數(shù)載流子即空穴被排斥而多數(shù)載流子即電子被吸引向SiO2層。


在VGG處具有一定量的正電位時(shí),一定量的漏極電流ID流過源極到漏極。當(dāng)該正電位進(jìn)一步增加時(shí),電流ID由于來自源極的電子流動(dòng)而增加,并且由于施加在VGG的電壓而進(jìn)一步推動(dòng)這些電流。因此,施加的VGG越正,漏極電流ID的值就越大。由于電子流的增加比耗盡模式更好,電流得到增強(qiáng)。因此,這種模式被稱為增強(qiáng)模式mos管。


nmos工作條件

1.導(dǎo)通條件:nmos管的導(dǎo)通條件是柵極電壓(Vg)高于源極電壓(Vs),且二者之間的壓差(Vgs)大于閾值電壓(Vgs(th))。即當(dāng)[Vg-Vs>Vgs(th)]時(shí),nmos管的柵極下方會(huì)形成反型層(n型溝道),使得源極和漏極之間導(dǎo)通。


2.導(dǎo)通特性:nmos管在導(dǎo)通后,相當(dāng)于一個(gè)開關(guān)閉合,壓降幾乎為0。雖然導(dǎo)通壓降幾乎為O,但會(huì)有一個(gè)內(nèi)阻RDSon。此外,GS極之間是一個(gè)電容,只有電容充滿電后mos才會(huì)導(dǎo)通。一般的mos管DS極之間會(huì)自帶一個(gè)肖特基二極管,增強(qiáng)mos的性能。


3.截止條件:要讓nmos管截止(斷開),只需取消掉柵極電壓即可。但是要注意,必須想辦法給GS間那個(gè)電容放電(并聯(lián)一個(gè)電阻)。


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